HiPIMS
量身定制的涂层
Ionautics凭借深厚的专业知识和先进的技术，通过HiPIMS技术为各类先进材料提供创新的解决方案。IONAUTiCS的产品提供完整的工艺控制，能够稳定形成可靠、耐用且高质量的薄膜，同时具有高度的可重复性。此外，我们还提供完整的环保解决方案，包括相关的硬件设备以及专业知识，以满足您的各项材料工艺需求。
- 定制工艺开发
- 量身定制
- 环保
- 高品质
首席技术官寄语
关于HiPIMS
“高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）是使用脉冲等离子体放电从标准磁控管沉积薄膜，其中在沉积过程中使用的材料的大部分以离子而不是常用的中性粒子的形式到达工件。电离沉积通量的好处是它可以通过电场和磁场引导和操纵。这样就就能更好地控制涂层的性能。”
DANIEL LUNDIN教授
首席技术官兼董事会成员，
等离子体与涂层物理学副教授
HiPIMS
出版物
关于我公司HiPIMS技术的深度介绍
高功率脉冲磁控溅射薄膜处理简介，D. Lundin和K. Sarakinos，J. Mater.Res.27, 780, (2012)
高功率脉冲磁控溅射：基础、技术、挑战和应用，D. Lundin，T. Minea和J. T. Gudmundsson，（爱思唯尔，阿姆斯特丹，2020）。
HiPIMS
我们自豪地提供一系列高性能HiPIMS涂层。如果您没有找到您需要的，请与我们联系，进行定制项目。
为了保障涂层配方的工业化，我们还提供必要的硬件和技术专业知识，还提供低批量生产，这消除了对昂贵投资的需求。
想了解更多关于HiPIMS和离子化薄膜沉积的信息吗？阅读我们的HiPIMS技术简介，以了解有关我们工艺的更多信息。
