特点
- 全范围测试
- 我们与客户和合作伙伴合作，在平面和可旋转磁控管上进行了工业应用测试。
- 稳健
- 稳定可靠的放电过程——恒定电压，无不必要的振荡。
- 外部触发
- 外部触发，可通过主从配置进行控制——多个电源。
- 反应过程控制
- 可按要求实施反应性HiPIMS过程控制。该功能允许：
- 过渡模态中的稳定运行
- 保持化学计量成分的反应性气体流量具有较宽的工艺窗口
HiPSTER 10
Ionautics开发了一种新的超快速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺需求。它是一款适用于工业和研发部门的10kW HiPIMS装置，适用于尺寸高达800 cm2的磁控管。
为了确保产品的卓越品质和优质性能，我们建议使用我们定制的HiPSTER直流装置和电缆。这些组件经过精心设计和严格测试，以确保在各种情况下都能提供稳定、可靠的性能。
应用
- 定制涂层
- DLC涂层
- ITO涂层
- 阻隔涂层
- 硬质涂层
- 光学涂层
- 电气涂层
- 3D涂层
HiPIMS技术页面。（在新链接中打开）。
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产品数据表
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