HiPSTER 6 BiPolar

我们的HiPSTER Bipolar HiPIMS装置是一种新的HiPIMS技术。它们由该领域的专家设计,这些专家在等离子体工艺开发和薄膜沉积方面有着优秀的记录。这种设计可以实现稳健且可重复的HiPIMS工艺。

为了确保产品的卓越品质和优质性能,我们建议使用我们定制的HiPSTER直流装置和电缆。这些组件经过精心设计和严格测试,以确保在各种情况下都能提供稳定、可靠的性能。联系我们获取更多信息。

特点

  • 稳健
    • 稳定可靠放电过程——恒定电压,无不必要的振荡。
  • 外部触发
    • 外部触发,可通过主从配置进行控制——多个电源。
  • 反应过程控制
    • 可按要求实施反应性HiPIMS过程控制。该功能允许:
  • 过渡模态中的稳定运行
  • 保持化学计量成分的反应性气体流量具有较宽的工艺窗口

应用

  • 定制涂层
  • DLC涂层
  • ITO涂层
  • 阻隔涂层
  • 硬质涂层
  • 光学涂层
  • 电气涂层
  • 3D涂层

有关各种应用的更多信息,请查看这里的HiPIMS技术页面>。(在新链接中打开)。

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产品数据表

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