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Qilin Fu
研究主任，
Plasmatrix Materials AB
瑞典
“HiPIMS为我们研究复合材料中的‘内摩擦’阻尼现象创造了一个新的平台，HiPSTER6为用高能粒子轰击实验基体的设计扩展提供了很大的可能性。
利用HiPIMS技术，我们能够利用高能粒子的竞争生长机制，产生具有纳米尺寸晶粒的球状纳米结晶结构。这使得材料内部的巨大阻尼机制能够形成高动态刚度材料（HiDaMat），这是材料科学中一个具有挑战性的研究课题。
这项技术使我们能够从其他工程角度调整薄膜性能，同时保持其工业化的潜力。”
清水徹英博士
先进材料
处理工程实验室
东京都立大学
“我第一次使用HiPSTER 1是我在林雪平大学的半年时间。一般认为，HiPIMS电源是一种安装在大机柜中的、带有数百根电缆的巨大系统，但这段经历彻底消除了我对它的负面印象，并让我对实验室使用HiPIMS电源有了新的认识。
HiPSTER 1 结构非常紧凑，由于配置和设计简单，因此具有良好的机动性。只需将电缆连接到直流电源和磁控管阴极，即可开始点燃等离子体。如果您有几个不同用途的真空室系统，就像在实验室中经常看到的那样，您就可以灵活地规划从一个系统到另一个系统的实验时间表。
此外，采用“峰值目标电流监测”的反应过程控制的一个新功能证明了它在反应溅射领域的巨大潜力。正如我们在HfN和TiOx沉积领域所经历的那样，它在宽范围的反应气体流中的优质稳定性得到了成功证明。
自2015年秋季以来，我们在我们大学推出了一种新的真空系统，其中安装了HiPSTER 1装置。我们非常期待高功能性薄膜涂层取得前景良好的成果。”
Oleksandr Polonskyi博士
研究者
材料科学研究所
基尔大学
德国
“我们使用HiPSTER 1和基于2英寸平面磁控管的气体聚集源成功生产了Ti和TiOx纳米颗粒。
在我们的现有沉积设备中设置该装置并不难。使用计算机界面操作该设备非常简单，不需要特殊指导，这对大学来说是一大优势，因为新生必须参与实验。
由于我们的特定实验条件，与“正常溅射”相比，放电通常在更高的压力下进行。这里必须提到的是，在氩气用作工作气体的情况下以及在Ti的反应溅射过程中，该压力范围（10-200 Pa）下的放电稳定性非常高。”
